印染廠污水采用光化學(xué)氧化技術(shù)治理
對于光化學(xué)氧化技術(shù)我們先來了解下，光化學(xué)氧化法包括光敏化氧化，光激發(fā)氧化，光催化氧化三種工藝，所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝。光化學(xué)氧化法是在化學(xué)氧化和光輻射的共同作用下，使氧化反應(yīng)在速率和氧化能力上比單獨(dú)的化學(xué)氧化、輻射是目前一項(xiàng)高級氧化的污水處理技術(shù)。能無選擇地將絕大多數(shù)有機(jī)物徹底氧化成CO2、H2O和其它無機(jī)物，反應(yīng)速度快，耗時短。它對難降解而具有毒性的小分子有機(jī)物去除效果極佳。
經(jīng)過調(diào)查研究發(fā)現(xiàn)，對于印染廢水其主要是來源于染料的顏色染料分子的共扼體系—含不飽和基團(tuán)-N=N-、-N=O等的發(fā)色體。利用光化學(xué)氧化工藝上的特點(diǎn)和染料污水的分子結(jié)構(gòu)特征，處理印染污水光化學(xué)氧化產(chǎn)生的羥基自由基能夠有效打破共扼體系結(jié)構(gòu)，使之變成無色的有機(jī)分子，并進(jìn)一步礦化為H2O、CO2和其他無機(jī)物質(zhì)，使印染污水處理得到凈化。
經(jīng)過多家印染公司的實(shí)踐，印染廠污水處理工藝采用光化學(xué)氧化技術(shù)在印染廢水處理方面具有其他工藝所無可比擬的優(yōu)勢。但是由于運(yùn)行成本較大，目前多數(shù)多只用于大型印染企業(yè)和預(yù)算高、要求高的企業(yè)。
